QUY TRÌNH QUANG KHẮC GỒM NHỮNG BƯỚC CƠ BẢN SAU:
Quy trình này dựa trên vật liệu cảm quang photoresist.
Photoresist gồm hai loại:
Photoresist dương : phần resist được chiếu xạ sẽ tan trong dung môi rửa ảnh.
Photoresist âm: phần resist được chiếu xạ sẽ đóng rắn và không tan trong dung môi rửa ảnh
Thành phần chính của các loại photoresist:
Polymer hay olygomer,prepolymer
Chất khơi mào nhạy quang.
Chất làm loãng (monomer).
Khi nhận được sự chiếu xạ chất khơi mào sẽ biến đổi thành gốc tự do hay cation, sau đó phản ứng với polymer, monomer,olygomer để tạo thành:
Polymer hay đóng rắn polymer (photoresist âm)
Polymer được biến tính - có thể tan trong một dung môi phân cực hay không phân cực (photoresist dương và photoresist âm)